DSpace Repository

Reaktív plazmaporlasztás optikai spektrum intenzitásának mérése

Show simple item record

dc.contributor.editor Bitay, Enikő hu_HU
dc.creator Papp, Sándor hu_HU
dc.creator Jakab-Farkas, László hu_HU
dc.creator Biró, Dominic hu_HU
dc.date.accessioned 2010-11-17T14:30:29Z
dc.date.available 2010-11-17T14:30:29Z
dc.date.issued 2010 hu_HU
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10598/11222
dc.description.abstract Abstract Automatic control of reactive sputtering process involves diagnosing electrical discharge plasma state and the definition of control variables. Optical intensity of characteristic radiation emitted by sputtered target atoms (titanium) can be a state dependent variable on sputtering process. In the present study, to obtain effective control of the deposition rate, we studied the plasma optical emission monitor method using optical emission spectroscopy. At the end of the paper are presented experimental results that justify the functionality of the monitoring system. These results and conclusions will help the study of advanced control algorithm of the magnetron spattering process to obtain thin layers. Összefoglalás A reaktív plazma porlasztás folyamatának automata szabályozása feltételezi a plazma kisülés állapotának ismeretét és a jelentősebb folyamatparaméterek meghatározását. A porlasztott céltárgy (titán) atomjainak karakterisztikus optikai sugárzás intenzitása a porlasztás állapotának fontos jellemzője. Dolgozatunkban , a rétegépülési sebesség szabályozhatóságának céljából, a plazma kisülés optikai spektrumát tanulmányoztuk, az optikai spektroszkópia módszereit felhasználva. A dolgozatban a kísérleti eredmények láthatók, amelyek az általunk kifejlesztett mérőrendszer működőképességet igazolják. További célunk egy fejlett reaktív porlasztási folyamatszabályzó algoritmus kidolgozása. hu_HU
dc.description.tableofcontents 247 - 250 hu_HU
dc.format Adobe PDF hu_HU
dc.language.iso hun hu_HU
dc.language.iso eng hu_HU
dc.publisher Erdélyi Múzeum-Egyesület hu_HU
dc.relation.ispartofseries Fiatal Műszaki Tudományos Ülésszaka 15 hu_HU
dc.rights Erdélyi Múzeum-Egyesület hu_HU
dc.source Erdélyi Múzeum-Egyesület hu_HU
dc.subject Reaktív plazma porlasztás hu_HU
dc.subject Karakterisztikus optikai sugárzás hu_HU
dc.subject Optikai spektroszkópia hu_HU
dc.subject Reactive sputtering hu_HU
dc.subject Plasma optical emission hu_HU
dc.subject Titanium spectral emission intensity hu_HU
dc.title Reaktív plazmaporlasztás optikai spektrum intenzitásának mérése hu_HU
dc.title.alternative Optical Spectral intensity Measurement in Reactuve Plasma Sputtering Process hu_HU
dc.type Article hu_HU
dcterms.provenance Erdélyi Múzeum-Egyesület hu_HU
europeana.provider Erdélyi Múzeum-Egyesület hu_HU
europeana.unstored Erdélyi Múzeum-Egyesület hu_HU
europeana.type TEXT hu_HU
dcterms.medium paper hu_HU


Files in this item

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search DSpace


Advanced Search

Browse

My Account